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上海發布《半導體行業污染物排放標準（征求意見稿）》。詳情如下：
前 言
本文件按照GB/T1.1-2020《標準化工作導則 第1部分：標準化文件的結構和起草規則》的規定起草。
請注意本文件的某些內容可能涉及專利。本文件的發布機構不承擔識別專利的責任。
本文件于2006年11月1日首次發布，本次修訂為第一次修訂。
本文件對DB31/374-2006的主要修訂之處如下：
——調整了水污染物排放標準的標準分級；將原第一類污染物兩個級別的排放標準調整為執行同一級別的排放標準，將原第二類污染物三個級別的直接排放標準調整為同一個級別；調整了大氣污染物排放標準的排放速率控制方式，將原來按不同排氣筒高度制定標準調整為執行同一標準；
——調整了污染物控制項目：增加了水污染物控制項目石油類、總氮、總磷、陰離子表面活性劑、總鋅、綜合毒性；增加了大氣污染物控制項目顆粒物、氯氣、氮氧化物、苯、錫及其化合物、砷化氫、磷化氫、非甲烷總烴、氰化氫；
——調整了部分污染物項目的排放限值；收嚴了懸浮物、化學需氧量、五日生化需氧量、總有機碳等10項水污染物項目的排放限值；收嚴了硫酸霧、氯化氫、揮發性有機物等3項大氣污染物的排放限值；
——增加了廠界大氣污染物控制點濃度限值；
——更新了部分污染物項目的測定分析方法。
本文件由上海市生態環境局提出、歸口并組織實施。
本文件起草單位：上海市環境科學研究院。
引 言
為貫徹《中華人民共和國環境保護法》《中華人民共和國大氣污染防治法》《中華人民共和國水污染防治法》《上海市環境保護條例》《上海市大氣污染防治條例》，引導半導體行業企業生產工藝和污染治理技術的進步和可持續發展，結合上海市的實際情況，對DB31/374-2006《半導體行業污染物排放標準》進行修訂。
本文件實施之日起，新制定或新修訂的國家大氣污染物排放標準嚴于本文件限值，以及國務院生態環境主管部門或市人民政府發布執行特別排放限值公告的，按照從嚴原則，按適用范圍執行相應大氣污染物排放標準。惡臭污染物執行DB31/1025。本文件實施后不再執行上海市《大氣污染物綜合排放標準》（DB31/933-2015）。環境影響評價文件或排污許可證要求嚴于本文件或地方標準時，按照批復的環境影響評價文件或排污許可證執行。
本文件由上海市人民政府202□年□□月□□日批準。
半導體行業污染物排放
1 范圍
本文件規定了半導體行業企業水和大氣污染物排放控制要求、監測和監督管理要求。
本文件適用于半導體行業企業或生產設施的水和大氣污染物排放管理，以及建設項目的環境影響評價、環境保護設施設計、竣工環境保護驗收、排污許可證核發及其投產后的水和大氣污染物排放管理。
本文件規定的水污染物排放控制要求適用于半導體行業企業直接或間接向其法定邊界外排放水污染物的行為。
2 規范性引用文件
下列文件中的內容通過文中的規范性引用而構成本文件必不可少的條款。其中，注日期的引用文件，僅該日期對應的版本適用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改單）適用于本文件。
GB/T 7466 水質 總鉻的測定
GB/T 7467 水質 六價鉻的測定 二苯碳酰二肼分光光度法
GB/T 7470 水質 鉛的測定 雙硫腙分光光度法
GB/T 7471 水質 鎘的測定 雙硫腙分光光度法
GB/T 7475 水質 銅、鋅、鉛、鎘的測定 原子吸收分光光度法
GB/T 7484 水質 氟化物的測定 離子選擇電極法
GB/T 7485 水質 總砷的測定 二乙基二硫代氨基甲酸銀分光光度法
GB/T 7494 水質 陰離子表面活性劑的測定 亞甲藍分光光度法
GB/T 11893 水質 總磷的測定 鉬酸銨分光光度法
GB/T 11900 水質 痕量砷的測定 硼氫化鉀-硝酸銀分光光度法
GB/T 11901 水質 懸浮物的測定 重量法
GB/T 11907 水質 銀的測定 火焰原子吸收分光光度法
GB/T 11910 水質 鎳的測定 丁二酮肟分光光度法
GB/T 11912 水質 鎳的測定 火焰原子吸收分光光度法
GB/T 16157 固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態污染物采樣方法
GB/T 16489 水質 硫化物的測定 亞甲基藍分光光度法
GB 37822 揮發性有機物無組織排放控制標準
HJ/T 27 固定污染源排氣中氯化氫的測定 硫氰酸汞分光光度法
HJ/T 28 固定污染源排氣中氰化氫的測定 異煙酸-吡唑啉酮分光光度法
HJ/T 30 固定污染源排氣中氯氣的測定 甲基橙分光光度法
HJ/T 38 固定污染源排氣中非甲烷總烴的測定 氣相色譜法
HJ/T 42 固定污染源排氣中氮氧化物的測定 紫外分光光度法
HJ/T 43 固定污染源排氣中氮氧化物的測定 鹽酸萘乙二胺分光光度法
HJ/T 55 大氣污染物無組織排放監測技術導則
HJ/T 60 水質 硫化物的測定 碘量法
HJ/T 65 大氣固定污染源 錫的測定 石墨爐原子吸收分光光度法
HJ/T 91.1 污水監測技術規范
HJ/T 195 水質 氨氮的測定 氣相分子吸收光譜法
HJ/T 199 水質 總氮的測定 氣相分子吸收光譜法
HJ/T 200 水質 硫化物的測定 氣相分子吸收光譜法
HJ/T 373 固定污染源監測質量保證與質量控制技術規范（試行）
HJ/T 397 固定源廢氣監測技術規范
HJ/T 399 水質 化學需氧量的測定 快速消解分光光度法
HJ 484 水質 氰化物的測定 容量法和分光光度法
HJ 485 水質 銅的測定 二乙基二硫代氨基甲酸鈉分光光度法
HJ 486 水質 銅的測定 2，9-二甲基-1，10-菲啰啉分光光度法
HJ 487 水質 氟化物的測定 茜素磺酸鋯目視比色法
HJ 488 水質 氟化物的測定 氟試劑分光光度法
HJ 489 水質 銀的測定 3,5-Br2-PADAP分光光度
HJ 490 水質 銀的測定 鎘試劑2B分光光度法
HJ 493 水質 采樣樣品的保存和管理技術規定
HJ 494 水質 采樣技術指導
HJ 495 水質 采樣方案設計技術指導
HJ 501 水質 總有機碳的測定 燃燒氧化-非分散紅外吸收法
HJ 505 水質 五日生化需氧量(BOD5)的測定稀釋與接種
HJ 533 環境空氣和廢氣 氨的測定 納氏試劑分光光度法
HJ 534 環境空氣 氨的測定 次氯酸鈉-水楊酸分光光度法
HJ 535 水質 氨氮的測定 納氏試劑分光光度法
HJ 536 水質 氨氮的測定 水楊酸分光光度法
HJ 537 水質 氨氮的測定 蒸餾-中和滴定法
HJ 544 固定污染源廢氣 硫酸霧的測定 離子色譜法（暫行）
HJ 547 固定污染源廢氣 氯氣的測定 碘量法（暫行）
HJ 548 固定污染源廢氣 氯化氫的測定 硝酸銀容量法（暫行）
HJ 549 環境空氣和廢氣 氯化氫的測定 離子色譜法(暫行)
HJ 583 環境空氣 苯系物的測定 固體吸附/熱脫附-氣相色譜法
HJ 584 環境空氣 苯系物的測定 活性炭吸附/二硫化碳解吸-氣相色譜法
HJ 604 環境空氣 總烴、甲烷和非甲烷總烴的測定 直接進樣-氣相色譜法
HJ 636 水質 總氮的測定 堿性過硫酸鉀消解紫外分光光度法
HJ 637 水質 石油類和動植物油的測定 紅外分光光度法
HJ 657 空氣和廢氣 顆粒物中鉛等金屬元素的測定 電感耦合等離子體質譜法
HJ 659 水質 氰化物等的測定 真空檢測管-電子比色法
HJ 644 環境空氣 揮發性有機物的測定 吸附管采樣－熱脫附/氣相色譜－質譜法
HJ 665 水質 氨氮的測定 連續流動-水楊酸分光光度法
HJ 666 水質 氨氮的測定 流動注射-水楊酸分光光度法
HJ 667 水質 總氮的測定 連續流動-鹽酸萘乙二胺分光光度法
HJ 668 水質 總氮的測定 流動注射-鹽酸萘乙二胺分光光度法
HJ 670 水質 磷酸鹽和總磷的測定 連續流動-鉬酸銨分光光度法
HJ 671 水質 總磷的測定 流動注射-鉬酸銨分光光度法
HJ 688 固定污染源廢氣 氟化氫的測定 離子色譜法（暫行）
HJ 692 固定污染源廢氣 氮氧化物的測定 非分散紅外吸收法
HJ 693 固定污染源廢氣 氮氧化物的測定 定電位電解法
HJ 694 水質 汞、砷、硒、鉍和銻的測定 原子熒光法
HJ 700 水質 65種元素的測定 電感耦合等離子體質譜法
HJ 732 固定污染源廢氣 揮發性有機物的采樣 氣袋法
HJ 734 固定污染源VOCs的測定 固相吸附-熱脫附-氣相色譜-質譜法
HJ 759 環境空氣 揮發性有機物的測定 罐采樣/氣相色譜-質譜法
HJ 776 水質 32種元素的測定 電感耦合等離子體發射光譜法
HJ 777 空氣和廢氣 顆粒物中金屬元素的測定 電感耦合等離子體發射光譜法
HJ 819 排污單位自行監測技術指南 總則
HJ 823 水質 氰化物的測定 流動注射-分光光度法
HJ 826 水質 陰離子表面活性劑的測定 流動注射-亞甲基藍分光光度法
HJ 828 水質 化學需氧量的測定 重鉻酸鹽法
HJ 836 固定污染源廢氣 低濃度顆粒物的測定 重量法
HJ 905 惡臭污染環境監測技術規范
HJ 908 水質 六價鉻的測定 流動注射-二苯碳酰二肼光度法
HJ 944 排污單位環境管理臺賬及排污許可證執行報告技術規范 總則（試行）
HJ 970 水質 石油類的測定 紫外分光光度法（試行）
HJ 1069 水質 急性毒性的測定 斑馬魚卵法
HJ 1132 固定污染源廢氣 氮氧化物的測定 便攜式紫外吸收法
HJ 1147 水質 pH值的測定 電極法
《污染源自動監控管理辦法》（國家環境保護總局令 第28號）
《環境監測管理辦法》（國家環境保護總局令 第39號）
3 定義
下列術語和定義適用于本文件：
3.1
半導體行業 semiconductor industry
指從事利用半導體材料的特殊電特性制造，以實現特定功能的電子器件企業，包括分立器件和集成電路兩大類產品。
3.2
現有企業 existing facility
本文件實施之日前通過環境影響評價審批或已經投產運行的半導體行業企業或生產設施。
3.3
新建企業 new facility
本文件實施之日起通過環境影響評價審批的新建、改（擴）建建設項目。。
3.4
標準狀態 standard condition
溫度為273.15K、壓力為101325Pa時的狀態。本文件規定的大氣污染物排放濃度限值均以標準狀態下的干氣體為基準。
[DB31/933-2015，3.14]
3.5
直接排放 direct disge
排污單位直接或未經終端公共污水處理系統向環境水體排放水污染物的行為。
[DB31/199-2018，3.5]
3.6
間接排放 indirect disge
排污單位向公共污水處理系統排放水污染物的行為。
[DB31/199-2018，3.6]
3.7
揮發性有機物 volatile organic compounds
參與大氣光化學反應的有機化合物，或者根據規定的方法測量或核算確定的有機化合物。
a) 用于核算或者備案的VOCs指20℃時蒸氣壓不小于10 Pa或者101.325 kPa標準大氣壓下，沸點不高于260℃的有機化合物或者實際生產條件下具有以上相應揮發性的有機化合物（甲烷除外）的統稱。
b) 以非甲烷總烴（NMHC）作為排氣筒、廠界大氣污染物監控、廠區內大氣污染物監控點以及污染物控制設施去除效率的揮發性有機物的綜合性控制指標。
[DB31/933-2015，3.4]
3.8
非甲烷總烴 NON-methane hydrocarbon, NMHC
采用規定的監測方法，氫火焰離子化檢測器有響應的除甲烷外的氣態有機化合物的總和，以碳的質量濃度計。
[DB31/933-2015，3.15]
3.9
廠界大氣污染物監控點 reference point for air pollutants at enterprise boundary
按照HJ/T 55 確定的廠界監控點，根據污染物的排放、擴散規律，當受條件限制，無法按上述要求布設監測采樣點時，也可將監測采樣點設于工廠廠界內側靠近廠界的位置。
[DB31/933-2015，3.18]
3.10
廠界大氣污染物監控點濃度限值 concentration limit at reference point for air pollutants at enterprise boundary
標準狀態下廠界大氣污染物監控點的大氣污染物濃度在任何一小時的平均值不得超過的值，單位為mg/m3。
[DB31/933-2015，3.19]
4 水污染物排放控制要求
4.1 新建企業自本文件實施之日起，現有企業自202×年×月×日起，執行表1規定的水污染物排放限值。
4.2 新建和現有半導體行業污水集中處理設施運營單位自2024年1月1日起，按照表2監測廢水的綜合毒性，每年監測不少于一次，并將監測結果報送生態環境主管部門。該項目為指導性指標，運營單位根據監測結果采取相應的控制措施。
5.1 有組織排放控制要求
5.1.1 新建企業自本文件實施之日起，現有企業自202×年×月×日起，執行表3規定的大氣污染物排放限值。
5.1.2 進入VOCs燃燒（焚燒、氧化）裝置的廢氣需要補充空氣進行燃燒、氧化反應的，排氣筒中實測大氣污染物排放濃度，應按式（1）換算成基準含氧量為3%的大氣污染物基準排放濃度。
進入VOCs燃燒（焚燒、氧化）裝置的廢氣含氧量可滿足自身燃燒、氧化反應，不需另外補充空氣的（燃燒器需要補充空氣助燃的除外），以實測濃度作為達標判定依據，但裝置出口煙氣含氧量不得高于裝置進口廢氣含氧量。
5.1.3廢氣收集處理系統應與生產工藝設備同步運行。廢氣收集處理系統發生故障或檢修時，對應的生產工藝設備應停止運行，待檢修完畢后同步投入使用；生產工藝設備不能停止運行或不能及時停止運行的，應設置廢氣應急處理設施或采取其他替代措施。
5.1.4 新建項目應避免采用燃燒式預處理方式（POU）處理含氯廢氣。
5.1.5 為減少全氟化物（PFCs）排放對環境產生的影響，集成電路制造企業應制訂PFCs排放的年削減計劃，通過優化工藝、原料替代、循環利用、污染治理等措施減少PFCs的排放。
5.1.6 排放氯氣、氰化氫、砷化氫、磷化氫的排氣筒高度不低于25m，其他排氣筒高度不低于15m（因安全考慮或由特殊工藝要求的除外），具體高度以及與周圍建筑物的距離應根據環境影響評價文件確定。
5.1.7 企業內部有多根排放同一污染物的排氣筒時，若兩根排氣筒距離小于其幾何高度之和，應合并視為一根等效排氣筒。若有三根以上的近距離排氣筒，且均排放同一污染物時，應以前兩根的等效排氣筒，依次與第三、第四根排氣筒取得等效值。等效排氣筒的有關參數計算方法見附錄A。
5.2 企業邊界監控要求
5.2.2 新建企業自本文件實施之日起，現有企業自202×年×月×日起，企業邊界任何1h大氣污染物平均濃度應符合表4規定的限值。
5.3 企業應按照HJ 944要求建立臺帳，記錄含VOCs原輔材料的名稱、使用量、回收量、廢棄量、去向以及VOCs含量。記錄保存期限不得少于五年。
6污染物監測要求
6.1 一般要求
6.1.1 企業應按照有關法律、《環境監測管理辦法》和HJ 819等規定，建立企業監測制度，制定監測方案，對污染物排放狀況及其根據需要對周邊環境質量的影響開展自行監測，保存原始監測記錄，并公布監測結果。
6.1.2 新建企業和現有企業安裝污染物排放自動監控設備的要求，按有關法律和《污染源自動監控管理辦法》的規定執行。
6.1.3 企業應按照環境監測管理規定和技術規范的要求，設計、建設、維護永久性采樣口、采樣測試平臺和排污口標志。
6.1.4 新建企業應在污染物處理設施的進、出口均設置采樣孔和采樣平臺；改（擴）建項目如污染物處理設施進口能夠滿足相關工藝及生產安全要求，則應在進口處設置采樣孔。若排氣筒采用多筒集合式排放，應在合并排氣筒前的各分管上設置采樣孔。
6.1.5 實施執法監測期間，企業應該提供工況數據的證明材料。
6.1.6 對企業排放廢水和廢氣的采樣，應根據監測污染物的種類，在規定的污染物排放監控位置進行，有廢水、廢氣處理設施的，應在處理設施后監控。根據企業使用的原料、生產工藝過程、生產的產品、副產品等，確定需要監測的污染物項目。
6.2 水污染物監測與分析
6.2.1 水污染物的監測采樣，按HJ/T 91.1、HJ 493、HJ 494、HJ 495的規定執行。
6.2.2 水污染物的分析測定，應采用表5所列的方法標準。
6.3 大氣污染物監測與分析
6.3.1 排氣筒中大氣污染物的監測采樣按GB/T 16157、HJ/T 373、HJ/T 397和HJ 732的規定執行。對于排放強度周期性波動的污染源，其污染物排放監測時段應涵蓋其排放峰值時段。
6.3.2 除臭氣濃度外，排氣筒中大氣污染物濃度可以任何連續1 h采樣獲得平均值，或者在任何1 h內以等時間間隔采集3-4個樣品，計算平均值；對于間歇式排放且排放時間小于1 h，則應在排放階段實現連續監測，或者在排放時段內以等時間間隔采集2-4個樣品，計算平均值。臭氣濃度監測應符合HJ 905的規定。
6.3.3企業邊界大氣污染物的監測采樣，按HJ/T 55的規定執行。一般以連續1 h采樣獲取平均值；若分析方法靈敏高，僅需用短時間采集時，應在1 h內以等時間間隔采集3-4個樣品，計算平均值。
6.3.4 大氣污染物的分析測定，應采用表6所列的方法標準。
6.4 本文件發布實施后，國家發布新的污染物監測方法標準，若適用性滿足要求，同樣適用于本文件相應污染物的測定。
7實施與監督
7.1 本文件由市和區生態環境主管部門負責監督實施。
7.2 企業是實施排放標準的責任主體，應采取必要措施，達到本文件規定的污染物排放控制要求。未遵守本文件規定的措施性控制要求，屬于違法行為的，依照法律法規等有關規定予以處理。
7.3 對于有組織排放和企業邊界及周邊地區，采用手工監測或在線監測時，除臭氣濃度外，按照監測規范要求測得的任意1 h平均濃度值超過本文件規定的限值，判定為超標。
7.4 現有企業在本文件實施之日起180 d內完成達標判定，制定達標規劃，在過渡期內完成達標治理。VOCs治理設施應符合國家和地方安全控制要求，在開停車等非正常排放、事故排放等工況下，確因安全控制短期需要難以滿足本文件要求，應及時向所屬生態環境行政主管部門報告。
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